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晶体出现率分析仪

更新时间:2024-07-12

访问量:1966

厂商性质:生产厂家

设备型号:ZMP960

简要描述:
ZMP9 60 晶体出现率分析仪是工作原理是通过专用高分辨率 CCD 线性传感器和显微光学扫描平台,将颗粒图像信息采集下来并传输到计算机中,用专门的颗粒图像分析软件对颗粒图像进行分析。结合智能的背景分离及颗粒边界搜索算法,将目标颗粒与背景分离,分析出各种测量参数,并通过显示器和打印机输出。
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ZMP9 60 晶体出现率分析仪工作原理是通过专用高分辨率 CCD 线性传感器和显微光学扫描平台,将颗粒图像信息采集下来并传输到计算机中,用专门的颗粒图像分析软件对颗粒图像进行分析。结合智能的背景分离及颗粒边界搜索算法,将目标颗粒与背景分离,分析出各种测量参数,并通过显示器和打印机输出。

    晶体出现率分析仪具有超大测量范围及高分辨率,同时具有直观、可视、准确、操作简单、测量参数全面等特点。能够同时测量颗粒粒度、形状及表面颜色 的新型颗粒分析仪器。

产品介绍:ZMP960晶体出现率分析仪,可以直接对透明贴剂中析出的晶体进行扫描,按照规定扫描范围进行扫描一定的面积,将其中的晶体识别出来并做数量统计。软件可以内置公式得出晶体出现率。



 

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